6月27日加州大学伯克利分校Dr. Yuan Wang学术报告：Plasmonic Materials for Scalable Nano-Manufacturing

报告题目：Plasmonic Materials for Scalable Nano-Manufacturing
报告人：Dr. Yuan Wang
           Senior Research Scientist & Center Manager
           NSF Nano-scale Science and Engineering Center (NSEC)
           University of California at Berkeley, USA
时间：2016年6月27日 (星期一)上午 10:00
地点：唐仲英楼 B501

附报告简介：
“Plasmonic Materials for Scalable Nano-Manufacturing”
Yuan Wang， NSF Nano-scale Science and Engineering Center (NSEC)， University of California at Berkeley, USA

As the key part of an engine for innovation and knowledge production, nanomanufacturing provides a

new foundation for economic growth. However, as the minimum feature size decreases, the cost of

tools and processes required for nanomanufacturing has grown dramatically, yet the flexibility and

reliability of those tools has decreased. In this seminar, I will present our current research at UC

Berkeley focused on plasmonic materials, which are essential for the research and development of

nanomanufacturing tools. Combining plasmonics with the flying head technique, inspired by the

magnetic recording head in the hard disk drive, a new high-throughput maskless nanolithography using

arrays of plasmonic lenses flying above a rotating substrate will also be presented. It can

efficiently confine surface plasmon waves into a nano-spot within the optical nearfield of the lens

with the scanning speed of 10 m/s. Such a scheme has the potential to achieve a few orders of

magnitude higher nanolithography throughput than current maskless techniques, and it promises a new

route towards the next generation of nanomanufacturing.

学术报告

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6月27日 加州大学伯克利分校Dr. Yuan Wang学术报告：Plasmonic Materials for Scalable Nano-Manufacturing

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